各位殿

皆様におかれましては益々ご清栄のこととお喜び申し上げます。

さて、この11月下旬に和歌山市にて国際シンポジウム
International Symposium on the Physics of Excitation‐assisted Nano‐processes
を開催します（11月20日(金)-21日 (土)、ダイワロイネットホテル和歌山）。

このシンポジウムでは、レーザー光や電子線照射などの量子的励起を用いた新しいナ
ノ構造作製技術に関し、その基礎から将来展望までを国内外の第一線の研究者がじっ
くりと紹介します。
現在、聴講および一般講演（ポスター）の発表を広く受け付け中です。

参加申し込み締め切り11月6日（金） 、講演発表申し込み締め切り10月16日（金）。


シンポジウムの詳細および各申込方法は専用ホームページ
http://annex.jsap.or.jp/excite/ispen.html をご参照願います。
サーキュラーのダウンロードはこちらから。

多数の方のご参加をお待ち申し上げます。

応用物理学会「励起ナノプロセス研究会」委員長　篠塚雄三